真空镀膜

就镀膜工艺而言,真空技术的应用体现在哪些方面? 

在许多镀膜工艺中(例如:金属、塑料或玻璃以蒸汽形态沉积),真空技术扮演着决定性的作用。在很多情况下,离开真空,就无法实现这些工艺。一般在工艺开始之初,对腔室施加中度或高度真空,以便真空排气,再抽除反应气体或者气化固体原材料。


这些镀膜工艺都有一个共同的要求:腔室必须保持完全符合镀膜工艺要求的中度或高度真空。这些镀膜工艺有助于改变材料的表面特征,例如硬度或耐腐蚀性。此外,真空镀膜也可以改善材料的附着性或湿润性,或者让材料表面保持永久疏水性或亲水性。


我们的真空系统可以为以真空为基础的镀膜工艺量身定制。


PRONOTEK 真空技术在镀膜工艺中的应用范例: 

  • 等离子增强沉积

  • 物理气相沉积(PVD)

  • 化学气相沉积(CVD )

  • 金属镀膜


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