众所周知，半导体工艺水平决定了晶体管尺寸大小。在半导体厂或光电厂中，真空系统应用于提供制程设备的真空吸盘或吸笔来搬运传送晶片或玻璃，为半导体制程中相当重要之支援系统。本篇文章涉及半导体制程技术领域，在介绍真空系统在半导体制程中的应用之前，我司打算先对半导体制程和真空系统做些简单的介绍。

在真空系统中，真空针对大气而言，表示一特定空间或系统内部分气体被排出，其内部空间的压力小于大气压力，则称此空间为真空或为真空状态，简单言之，空间内压力低于一大气压力即为真空。在高科技制程中所要求的高真空或超高真空，就必须要有足够的真空技术或设备才能达成。

半导体制程专用真空系统的真空度要求一般为700-~500mmHg之间，仅落在粗略真空范围内，而制程设备真空度要求则视其应用范围而定，而落在中真空度与超高真空度或以上之范围。

不同类型的真空泵组合而成的系统，真空度也有所不一样，关于真空系统的类型，东莞市普诺克真空科技有限公司整理出几大类。

真空系统的类型有三种：

1.低真空系统

2.中真空系统

①由罗茨泵为主泵串联机械泵而构成的系统；

②由油增压泵为主泵串联机械泵而构成的系统；

③由罗茨泵串联小罗茨泵，再串联机械泵而构成的系统。

3.高真空系统

①由扩散泵为主泵串联罗茨泵，再串联机械泵而构成的系统；

②由扩散泵为主泵串联机械泵而构成的真空系统；

③由扩散泵为主泵串联油增压泵，再串联机械泵而构成的真空系统。

根据上述所提到的内容，在半导体制程中，最佳的方法就是选择应用高真空系统，高真空系统可以由不同的真空设备组合而成。

事实上简单的真空系统只是能获得一个粗真空，而想要获得高真空时，通常在真空系统中串联一个高真空泵，比如罗茨泵和螺杆泵等都是获得高真空的泵。当串联一个高真空泵之后，通常要在高真空泵的入口和出口分别加上阀门，以便高真空泵能单独保持真空。如果所串联的高真空泵是一个油扩散泵，为了防止大量的油蒸气返流进入被抽容器，通常在油扩散泵的入口加一个捕集器——水冷障板。根据要求，还可以在管路中加上除尘器、真空继电器规头、真空软连接管道、真空泵入口放气阀，散热器等等，这样就构成了一个较完善的高真空系统。

关于半导体制程和真空系统，小编就介绍到这里，如果您仍对真空系统在半导体制程中的应用有什么疑惑的话，随时可以联系我司。