本文主要是真空室专用真空系统的介绍。真空系统的核心是真空室，它是针对具体应用量身定做的。它包括应用并将其可靠地与外部分离或防止环境受内部流程影响。不管干燥过程是否需要高真空环境，等离子体过程都需要在中或高真空环境下进行，而表面研究也需要在高真空环境下进行：真空室必须始终机械地承受其与大气的压差。

真空室是广泛应用于现代制造工业和科学研究的基本装置之一，例如电子工业、信息产业的大规模印刷线路、集成电路和大面积超导薄膜的制备等，真空沉积过程中通常对真空度都有较高的要求。真空沉积时真空室的漏气、真空室壁面的放气和被蒸发材料本身的放气都可能导致真空室内真空度的快速变差，因此需要采用相应的措施快速改善真空室内的真空度。目前，在保证真空室良好密封性的前提下，采用具有大抽速的钛升华泵可以使真空室快速达到超高真空度。由于钛在升化和沉积的过程中，与活性气体结合成稳定的化合物——固相的TiO或TiN，从而能够快速将真空室内的气体分子抽除。

针对现有技术的不足，本发明的目的就是提供一种费用相对低廉的快速提高真空室专用真空系统真空度的方法。

为实现上述目的，普诺克提供一种快速提高真空室真空度的方法，在真空室内，使活性高且稳定性好的金属蒸发形成蒸气粒子，并将该蒸气粒子沉积于金属板表面形成金属膜，金属粒子及其形成的新鲜金属膜可以快速吸附真空室内的气体分子，并进一步生成稳定的固态物质。在真空室内，采用蒸发方式，使少量活性高且稳定性好的金属材料蒸发为蒸气粒子，蒸气粒子迅速与真空室内的水蒸气、氧气、氢气等气体发生反应，生成稳定的固态物质，从而达到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室专用真空系统的真空度，不仅费用低廉而且迅速高效。

经过真空室专用真空系统的介绍，为达到最佳配置，选择真空系统时，应考虑下述各点：

1.确定工作真空范围

首先必须检查确定每一种工艺要求的真空度。因为每一种工艺都有其适应的真空度范围，必须认真研究确定之。

2.确定极限真空度

在确定了工艺要求的真空度的基础上检查真空泵系统的极限真空度，因为系统的极限真空度决定了系统的最佳工作真空度。一般来讲，系统的极限真空度比系统的工作真空度低20%，比前级泵的极限真空度低50%。

3.真空容积

检查确定达到要求的真空度所需要的时间、真空管道的流阻与泄漏。考虑达到要求真空度后在一定工艺要求条件下维持真空需要的抽气速率。

4.被抽气体种类与抽气量

检查确定工艺要求的抽气种类与抽气量。因为如果被抽气体种类与真空泵内液体发生反应，真空系统将被污染。同时必须考虑确定合适的排气时间与抽气过程中产生的气体量。